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四氯化硅行业概况

2019-08-08 19:13:52报告大厅(www.bptrips.com) 字号:T| T

  2017年到2022年全球四氯化硅市场整体扩产速度维持在12%左右。高纯度光纤级四氯化硅是制作光纤预制棒的主要原料,质量好坏直接影响光纤产品的质量。以下对四氯化硅行业概况分析。

  四氯化硅行业概况分析,2017年国内高纯四氯化硅需求在5-6万吨,进口占比高达80%。据四氯化硅行业分析测算,2018-2025年国内高纯四氯化硅的需求复合增速将达到12%,市场空间较大。

  高纯四氯化硅为无色透明液体,纯度稍低的呈现微黄或者淡黄色,有窒息性气味。常温常压下密度1.48,熔点-70℃,沸点57.6℃,沸点随着压力增高而增高。在潮湿空气中水解而成硅酸和氯化氢。遇水时水解作用很激烈,也能和醇类起激烈反应。溶于四氯化碳、四氯化钛、四氯化锡。现从六大分来分析四氯化硅行业概况。

  精馏法

  四氯化硅行业概况分析,精馏法是利用四氯化硅与杂质组分之间挥发度的差异,借助“回流”技术,即多次气化和部分冷凝的过程,实现混合液高纯度分离,从而得到高纯度的四氯化硅产品。

  吸附法

  固体吸附基本原理是基于化合物中各组分化学键极性不同来进行吸附分离的。四氯化硅行业概况分析, SiCl4 是无电偶极矩的对称分子,与此相反,所含杂质如 AlCl3、 FeCl3、 PCl3 和 BCl3 等是具有相当大偶极矩的不对称分子,强烈地趋向于形成加成化学键,很容易被吸附剂吸附。

  吸附精馏法

  四氯化硅行业概况分析,吸附方法去除极性和含氢杂质,然后利用精馏方法可以将与 SiCl4 挥发度相差较大的杂质有效去除。

  部分水解法

  与四氯化硅相比,三氯氢硅、金属氯化物、卤化硼以及其它含硼的络合物更容易发生水解,或与水反应络合形成难挥发的物质。四氯化硅行业概况分析,因此可采用部分水解法脱除四氯化硅中微量的硼杂质以及金属杂质。

  光氯气法

  四氯化硅行业概况分析,光氯化法是通过紫外线照射氯气,使氯气分子发生自由链式反应,离解成 2 个氯原子自由基,氯原子自由基可与SiHCl3 及其他含氢杂质发生反应,含氢杂质发生脱氢氯化反应后,与四氯化硅的相对挥发度增大,从而有利于通过精馏提纯进行分离,得到光纤用高纯度四氯化硅。

  等离子法

  低温等离子法制备光纤用四氯化硅,一般采用介质屏蔽放电技术。四氯化硅行业概况分析,冷的等离子体在介质屏蔽放电过程中会产生大量活跃的自由基,四氯化硅中的含氢杂质很容易通过这些自由基发生反应,形成稳定的高沸物,然后再通过精馏等方法将其分离。

  随着国际国内多晶硅市场的变化,冷氢化技术也快速发展,多种适合冷氢化工艺技术运行条件的新材料、新设备相继被研发使用成功,改良西门子工艺配合冷氢化技术对副产物四氯化硅进行回收利用,逐渐成为目前多晶硅生产普遍采用的首选工艺,国内江苏中能、洛阳中硅等公司先后采用冷氢化技术,在上述两家国内多晶硅生产厂家和国外多晶硅生产厂家的带动下,在最近一轮新建项目和扩建项目中的企业不约而同的选择了冷氢化技术作为降低能耗和成本的首选。四氯化硅行业概况分析,由于冷氢化技术具有反应温度低、所需能耗小等优点,已经逐步成为企业降低单位产品能耗和成本的重要手段。

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